中芯國際光罩廠提供其代工客戶和其它芯片加工廠及機構光掩模製造服務。配備了先進的設備工具，中芯光罩廠運用光學趨近效應修正技術(OPC)，為客戶提供二元鉻版光掩模以及相位移動光掩模。5"×5"和6"×6"的光掩模均可用於G-line，I-line，深紫外線DUV及ArF步進曝光機和掃描曝光機。

客戶使用中芯光掩模製造服務作為其一站式服務的一部分，可以享受到如下好處：縮短從流片到芯片製造的周期、降低光掩模在運輸過程中的損傷機率、增加服務的靈活性以及減少成本。另外，客戶可以享受到便捷的在線光掩模資料檢視以及遠程製版圖形的檢查（job deck view）服務。

中芯光罩廠實施嚴格的品質控制，與我們強大的技術及研發隊伍緊密合作，生產出的光掩模關鍵尺寸控制嚴格，缺陷率極低。每張光掩模的狀態都會記錄在光掩模狀態跟蹤系統里並被嚴密追蹤，以確保高品質光掩模的出貨。實施定期的檢查，幫助我們避免和及早發現ESD損傷、划痕、顆粒、薄膜框架及老化等問題。

中芯光罩廠實行嚴密的安全控制來保障客戶的知識產權。獨立的內部網絡以及專門的防火牆構築了安全的、訪問限制的光罩廠生產環境。光罩廠資料以及網絡安全包括以下方面：